产品优势

1、CCD/CMOS全谱光谱仪制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术），通道不受限制 ；
2、国际光谱仪技术同步，国内能生产真空CCD/CMOS全谱技术光谱仪的制造商；
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、升级多基体方便，无须变动增加硬件 ；
5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性 ；
6、体积小、重量轻， 移动安装方便 ；
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ；
主要特点：
1、可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛  基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用短的时间达到优的分析效果；
3、光学系统采用真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性极佳；
4、特殊的光室结构设计，使真空室容积变小；
5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
6、开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；
7、预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，计算机自动扣除干扰；
8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；
9、固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性；
10、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
11、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气；
12、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，易清洁电极；
13、高性能DSP及ARM处理器，具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；
14、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有好的适用性；
15、核心器件原装进口，保证仪器品质。

光学系统
光学结构	帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统
光室温度	自动控制恒温：35℃±0.5℃
波长范围	160-800nm
光栅焦距	350 mm
光栅刻线	3600 l/mm
一级光谱线色散率	1.2 nm/mm
探测器	多块高性能线阵CCD/CMOS
平均分辨率	10pm/pixel
激发台
气   体	冲氩式
氩气流量	激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量
电   极	钨材喷射电极技术
吹   扫	点击自吹扫功能
补   偿	热变形自补偿设计
分析间隙	样品台分析间隙：4mm
激发光源
类   型	HEPS数字化固态光源
频   率	100-1000Hz
放电电流	1-80A
特殊技术	放电参数优化设计
预   燃	高能预燃技术
数据采集系统
处理器	高端ARM处理器，高速数据同步采集处理
接   口	基于DM9000A的以太数据传输
电源与环境要求
输   入	220VAC 50Hz
功   率	分析时最大700W，待机状态40W
工作温度	10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）
工作湿度	20-80%
尺寸与重量
主机尺寸	800*750*500 mm
重      量	120Kg